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2020年中國(guó)半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模及發(fā)展趨勢(shì)分析 國(guó)產(chǎn)化任重道遠(yuǎn)【組圖】

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20 韋婷 ? 2020-09-07 11:40:54  來(lái)源:前瞻產(chǎn)業(yè)研究院 E139909G1

在晶圓制造中占25%的比重

沉積是半導(dǎo)體制造工藝中的一個(gè)非常重要的技術(shù),其是一連串涉及原子的吸附、吸附原子在表面擴(kuò)散及在適當(dāng)?shù)奈恢孟戮劢Y(jié),以漸漸形成薄膜并成長(zhǎng)的過(guò)程。在一個(gè)新晶圓投資建設(shè)中,晶圓廠80%的投資用于購(gòu)買(mǎi)設(shè)備。其中,薄膜沉積設(shè)備是晶圓制造的核心步驟之一,占據(jù)著約25%的比重。

圖表1:半導(dǎo)體設(shè)備投資占比情況(單位:%)

薄膜沉積工藝主要有原子層沉積(ALD)、物理式真空鍍膜(PVD)、化學(xué)式真空鍍膜(CVD)等,其中ALD又是屬于CVD的一種,是目前最先進(jìn)的薄膜沉積技術(shù)。CVD,即使用金屬鹵化物、有機(jī)金屬、碳?xì)浠衔锏葻岱纸?,氫還原在高溫下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)以析出金屬、氧化物、碳化物等材料;PVD是將原子從原料靶材上濺射出來(lái),利用物理過(guò)程實(shí)現(xiàn)物質(zhì)轉(zhuǎn)移,沉積形成導(dǎo)電電路。

圖表2:三種半導(dǎo)體薄膜沉積工藝比較

全球市場(chǎng)規(guī)模至2025年有望達(dá)到340億美元

近年來(lái),全球薄膜沉積設(shè)備持續(xù)穩(wěn)定發(fā)展,根據(jù)Maximize Market Research數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì),全球半導(dǎo)體薄膜沉積市場(chǎng)2017年市場(chǎng)空間約為125億美元,預(yù)計(jì)到2025年將達(dá)到340億美元,期間以年復(fù)合13.3%的速度增長(zhǎng)。其中市場(chǎng)將以存儲(chǔ)、AMOLED顯示屏以及太陽(yáng)能電站等新興應(yīng)用需求的增加為驅(qū)動(dòng)薄膜沉積市場(chǎng)增長(zhǎng)的核心動(dòng)力。

圖表3:2017-2025年全球薄膜沉積設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模及預(yù)測(cè)(單位:億美元,%)

CVD占主導(dǎo)地位

從半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備主要類(lèi)型來(lái)看,CVD設(shè)備占據(jù)著57%的薄膜沉積設(shè)備市場(chǎng),領(lǐng)先于其他類(lèi)型設(shè)備;其次是PVD,占比為25%;ALD及其他鍍膜設(shè)備占據(jù)著18%的市場(chǎng)份額。

圖表4:2019年全球半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備市場(chǎng)格局(單位:%)

國(guó)際巨頭占領(lǐng)細(xì)分市場(chǎng)

從各細(xì)分市場(chǎng)來(lái)看,在CVD設(shè)備市場(chǎng)中,應(yīng)用材料全球占比約30%,加上泛林半導(dǎo)體的21%和TEL的19%,三大廠商占據(jù)了全球70%的市場(chǎng)份額;在ALD設(shè)備市場(chǎng)中,ALD設(shè)備龍頭TEL和ASM分別占據(jù)了31%和29%的市場(chǎng)份額,剩下40%的份額由其他廠商占據(jù);在PVD設(shè)備市場(chǎng)中,應(yīng)用材料則基本壟斷了PVD市場(chǎng),占85%的比重,處于絕對(duì)龍頭地位。

圖表5:2019年薄膜沉積各細(xì)分設(shè)備品牌占比情況(單位:%)

國(guó)產(chǎn)化率僅為2%

從國(guó)內(nèi)市場(chǎng)看,中國(guó)薄膜沉積設(shè)備龍頭有北方華創(chuàng)和沈陽(yáng)拓荊。其中,北方華創(chuàng)產(chǎn)品線覆蓋CVD、PVD和ALD三類(lèi);沈陽(yáng)拓荊主攻CVD和ALD,目前技術(shù)儲(chǔ)備均達(dá)到28/14nm節(jié)點(diǎn)。但從國(guó)內(nèi)設(shè)備存量市場(chǎng)來(lái)看,我國(guó)薄膜沉積設(shè)備國(guó)產(chǎn)化率僅為2%,98%的設(shè)備來(lái)源于進(jìn)口。

為加速薄膜沉積設(shè)備國(guó)產(chǎn)化腳步,近年來(lái)北方華創(chuàng)和沈陽(yáng)拓荊兩家公司不斷加大研發(fā)力度,也分別在技術(shù)儲(chǔ)備以及客戶認(rèn)證方面取得了良好進(jìn)展。2020年4月7日,北方華創(chuàng)宣布,其THEORISSN302D型12英寸氮化硅沉積設(shè)備進(jìn)入國(guó)內(nèi)集成電路制造龍頭企業(yè)。該設(shè)備的交付,意味著國(guó)產(chǎn)立式LPCVD設(shè)備在先進(jìn)集成電路制造領(lǐng)域的應(yīng)用拓展上實(shí)現(xiàn)重大進(jìn)展。

圖表6:中國(guó)薄膜沉積設(shè)備國(guó)產(chǎn)化情況(單位:%)

圖表7:中國(guó)薄膜沉積設(shè)備相關(guān)領(lǐng)先企業(yè)技術(shù)進(jìn)展情況

以上數(shù)據(jù)來(lái)源于前瞻產(chǎn)業(yè)研究院《中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)戰(zhàn)略規(guī)劃和企業(yè)戰(zhàn)略咨詢報(bào)告》,同時(shí)前瞻產(chǎn)業(yè)研究院提供產(chǎn)業(yè)大數(shù)據(jù)、產(chǎn)業(yè)規(guī)劃、產(chǎn)業(yè)申報(bào)、產(chǎn)業(yè)園區(qū)規(guī)劃、產(chǎn)業(yè)招商引資等解決方案。

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2022-2027年中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)戰(zhàn)略規(guī)劃和企業(yè)戰(zhàn)略咨詢報(bào)告
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作者 韋婷
前瞻產(chǎn)業(yè)研究員、 分析師
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