當(dāng)前位置： 經(jīng)濟(jì)學(xué)人 ? 行業(yè)問答
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邀請演講離子注入機(jī)的工作流程可以分為以下六個步驟：原材料在離子源部分產(chǎn)生帶正電的雜質(zhì)離子；雜質(zhì)離子由負(fù)性引出電極析出；離子群在質(zhì)量分析儀中的磁場進(jìn)行篩選，選出后續(xù)注入工藝所需的摻雜離子束流；摻雜離子束在電場中進(jìn)行加速，使之具備足夠的動能注入到硅片的晶格結(jié)構(gòu)中；摻雜離子束流掃描整個硅片，使硅片表面得到均勻摻雜；熱退火過程修復(fù)晶格，激活晶格結(jié)構(gòu)中的雜質(zhì)離子。
目前，全球離子注入機(jī)市場規(guī)模為10億美元左右，從全球競爭格局上看，應(yīng)用材料長期以來占據(jù)了70%以上的市場，除此之外，美國的亞舍立科技發(fā)展迅猛，市場分額也在不斷增加。
圖表2:全球離子注入機(jī)市場格局
資料來源：前瞻產(chǎn)業(yè)研究院整理
按照設(shè)備所使用的離子能量和離子束電流大小可將離子注入機(jī)可分為高能量、高電流、中低電流三種。高能量注入機(jī)的離子束具有較高能量，一般可達(dá)到500keV以上，但摻雜濃度較低，主要用于材料襯底的深阱摻雜。高電流注入機(jī)能獲得較大的離子束電流，該設(shè)備摻雜濃度大，但由于離子能量較低，因此其注入深度較淺，該設(shè)備主要用于器件的源漏區(qū)摻雜和LDD區(qū)摻雜。中低電流注入機(jī)應(yīng)用比較廣泛，該設(shè)備的離子能量和束流大小分別遠(yuǎn)小于高能量注入機(jī)和高電流注入機(jī)，被廣泛應(yīng)用于除深井摻雜和源漏摻雜以外幾乎所有的離子摻雜工藝。目前，低能大束流占有離子注入機(jī)市場的55%。從大束流離子注入機(jī)整體格局看，主要由三家龍頭企業(yè)掌控。應(yīng)用材料收購Varian公司成為老大，占有40%的市場份額；其次是Axcelis，占有32%的市場份額；第三家是AIBT，占有25%的市場份額，前三家企業(yè)包攬了97%以上的市場份額，行業(yè)高度集中。
圖表2:低能大束流離子注入機(jī)市場分額
資料來源：前瞻產(chǎn)業(yè)研究院整理
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